A Lei de Moore prevê duplicação da densidade de transístores a cada dois anos, mas o custo e a complexidade das fábricas crescem tão depressa que poucas empresas ainda podem acompanhar.
As designações em nanómetros nas tecnologias de transístores deixaram de representar medidas físicas reais e servem sobretudo de marketing.
A litografia EUV e High-NA EUV permitem padrões de 6-7 nm, mas estão limitadas pela física óptica e pela química dos fotorresistes, que não funcionam abaixo de 5 nm.
Os transístores evoluíram de planar para FinFET, depois para GAAFET (RibbonFET) e futuramente CFET, cada geração aumentando drasticamente a complexidade de fabrico.
O crescimento da frequência de relógio dos processadores estagnou desde 2006 devido ao fim do dimensionamento de Dennard e às limitações térmicas e de fugas de corrente.
Inovações como o fornecimento de energia no verso do chip e chiplets são otimizações pontuais e de retorno limitado face aos custos crescentes.
O aumento exponencial dos custos de fotomáscaras e de construção de fabs avançadas exclui pequenos fabricantes dos nós mais evoluídos.
Superar o declínio da Lei de Moore exige simplificar processos, aceitar maiores taxas de defeitos ou adotar novos paradigmas de fabricação.
Um mercado de computadores “usados” pode tornar-se dominante se os ganhos de desempenho se tornarem marginais, prolongando a vida útil dos chips.
Startups, como a American Compute Corporation, exploram novas arquiteturas de CPU e processos de fabrico simplificados para o pós-Moore.
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