摩尔定律难以持续

晶圆厂建造成本和行业壁垒持续上升，摩尔定律经济基础正在崩溃。

纳米工艺标称尺寸已不再真实，有效晶体管密度受几何和光刻分辨率限制。

极紫外光刻和光阻材料技术难以突破7nm以下工艺瓶颈。

FinFET到GAAFET再到CFET的晶体管演进不断提升复杂度和成本，寿命有限。

丹纳德缩放失效导致处理器主频停滞，功耗密度难以降低。

光掩膜成本暴涨，挤压小型客户，挑战代工商业模式。

必须寻求大幅简化工艺、容错设计或新商业模式才能继续前进。